氧化镓单晶衬底及外延片

     

       相比宽禁带半导体而言,氧化镓是性能更为优异的超宽禁带半导体材料,具有本征日盲紫外波段、耐高压、低损耗、高功率、高频率、耐高温以及化学稳定性好等优点。

   磷化铟多晶

     

       InP是微电子和光电子的基础材料,为直接带隙,禁带宽度约1.3 eV,具有电子饱和漂移速度高、耐高温、搞辐射等特点,在超速、超高频、低功耗、低噪音器件和电路,特别在光电子器件和光电集成方面占有独特的优势。

   人工光学晶体

     

       人工光学晶体是一个覆盖机械制造、化工、轻工、奢侈品等多领域的综合产业。铭镓半导体生产的大尺寸光学晶体莫氏硬度为9级,透光率高达95%,可在1900℃的高温下稳定工作。